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鎵液態金屬離子源-期待您的訂購

更新時間:2016-12-16  點擊率:13651

華宇晶現已具備技術,生產可供聚焦離子束裝置用的鎵液態金屬離子源。該離子源的亮度高、發射源尺寸極小、發射電流穩定、調節方便、沒有氣體負載,適用于各種超高真空裝置,是進行微離子束技術和表面分析技術開發性研究的關鍵部件之一。使用時間3000小時。

期待您來我司洽談與指導,如需了解詳情,請以下列方式聯系我們:

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